摘要台灣半導體關鍵技術外洩案一審宣判，離職台積電工程師陳力銘因涉洩漏2奈米關鍵技術，遭依違反國安法等罪判處10年徒刑。其餘涉案工程師與相關人員也分別獲判不等刑度，東京威力則遭判罰金1…
台積電2奈米洩密案27日一審宣判，離職工程師陳力銘遭依違反《國家安全法》等罪判處有期徒刑10年，可上訴。 其餘涉案人員也分別遭判刑，東京威力公司則被判罰金新台幣1億5000萬元、緩刑3年，並須支付台積電1億元及公庫5000萬元。
一審認定先進製程資料外流風險成立
依判決結果，台積電在職工程師吳秉駿、戈一平分別判處3年、2年徒刑，陳韋傑判刑6年。 另名東京威力員工盧怡尹則判刑10月、緩刑3年，並須支付公庫100萬元，顯示法院對個人涉案情節與企業監督責任分別作出不同處置。
檢方起訴指出，陳力銘曾任台積電12廠良率部門工程師，離職後轉往台積電半導體製造設備供應商東京威力科創股份有限公司任職。
檢方指涉案人員藉職務與人脈取得機密
檢調隨後發動搜索、約談並聲請羈押禁見，後續由高檢署智慧財產檢察分署依營業秘密法、國安法等罪嫌起訴相關人員，案件也因此被視為攸關國家核心關鍵技術保護的重要司法指標。
法院審理時指出，本案涉及先進製程機密資料，已屬國家核心關鍵技術，即使資料未實際流向不特定第三方，僅其可能外流的風險，就足以危及產業競爭力與國家經濟安全。 法院並認為，涉案人員多具相關產業背景，利用職務或人脈蒐集、翻拍甚至重製資料，相關行為已非單純企業內部違規，而是具有國安層級影響。
此案宣判後，不僅凸顯半導體先進製程資訊的保密壓力，也反映司法機關對技術外洩與企業監督責任的加重審視。 由於全案仍可上訴，後續二審結果與企業、產業對營業秘密保護機制的調整，將持續受到市場與科技業界關注。
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